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真空閥

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:33:15 +0000

真空閥 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:33

一、工作原理（按類型分）

截止閥（擋板閥）：擋板（閥芯）與閥座貼合 / 脫離控通斷，適配 10?~10?11Pa，密封性強，用于腔室與泵組通斷；
蝶閥：蝶板旋轉 0° 開、90° 關，適配 10?~10?3Pa，阻力小、開關快，適合大口徑氣路（如干燥爐）；
止回閥（單向閥）：氣體壓力差驅動閥芯單向導通，防反向回流，適配 10?~10?2Pa，用于前級泵出口；
微調閥：針形閥芯調間隙控流量，適配 10?~10??Pa，精度高，用于檢漏儀、真空規氣路。

二、應用場景

真空設備：泵組間裝截止閥聯動控壓；腔室檢修時關閥隔離真空；
工業生產：半導體工藝用微調閥控氣體流量；真空冶金用蝶閥切換抽真空 / 惰性氣體回填；
科研實驗：超高真空系統（加速器、TEM）用金屬密封截止閥保密封；檢漏儀用微調閥定漏點；
民生 / 特種：真空包裝機用截止閥控抽氣密封；航天模擬器用截止閥隔離梯度真空艙。

真空閥類目：

全金屬 UHV 閥
鋁質閥
鋁插板閥
電磁擋板閥
不銹鋼插板閥
微調放氣閥

真空產品

擴散泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:18:41 +0000

擴散泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:18

一、工作原理

以高溫油（如擴散泵油）為工作介質，通過加熱使油汽化產生高速油蒸氣射流（速度超 200m/s）；油蒸氣射流具有動量傳遞作用，將泵腔內待抽氣體分子 “裹挾” 至泵壁；

氣體分子與油蒸氣碰撞后，隨油蒸氣向排氣口方向運動；
油蒸氣接觸低溫泵壁后冷凝回流，重新加熱循環；
被輸送的氣體由前級泵（如旋片泵）抽走，實現中高真空獲取，量程10?1~10??Pa，需搭配前級泵使用，且需控溫防油過熱分解。

二、核心應用場景

真空設備過渡抽氣：作為旋片泵（低真空）與離子泵（超高真空）的 “中間泵”，將系統壓力從 10?1Pa 降至 10??Pa，為超高真空設備啟動鋪路；
工業鍍膜：大型光學鍍膜機（如眼鏡片、汽車玻璃鍍膜）、磁控濺射鍍膜生產線，維持腔室中高真空，避免膜層雜質；
金屬加工：真空釬焊（如航空零部件焊接）、真空熔煉（特種合金制備），抽除爐內氣體，防止金屬氧化；
科研與檢測：電子束焊機、真空光譜儀等設備，提供中高真空環境，保障光束穩定性與檢測精度。

擴散泵類目：

小型擴散泵
大型擴散泵

真空產品

旋片泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:10:22 +0000

旋片泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:10

一、工作原理

泵腔內偏心安裝轉子，轉子槽內嵌入 2-3 片可滑動旋片（靠彈簧或離心力緊貼泵腔內壁）；轉子旋轉時，旋片將泵腔分隔為多個可變容積腔室：

進氣側腔室容積增大，吸入待抽氣體；
氣體隨轉子轉動被帶入排氣側，腔室容積縮小，氣體被壓縮；
當氣體壓力高于大氣壓時，推開排氣閥排出，循環實現抽氣，量程10?~10?2Pa，部分型號可通過氣鎮閥減少水蒸氣凝結。

二、核心應用場景

真空設備前置抽氣：作為分子泵、離子泵等超高真空設備的 “前級泵”，先將系統壓力降至 10?1Pa 以下，為后級泵啟動創造條件；
工業生產：真空干燥（如塑料、電子元件脫水）、真空包裝（食品、醫療器械防潮）、小型鍍膜機（裝飾鍍膜、刀具鍍膜）腔室抽低真空；
科研與實驗：實驗室小型真空系統（如真空手套箱、簡易真空罐）、教學實驗用真空裝置，提供基礎低真空環境；
日常與民生：冰箱冰柜維修時抽真空（排除管路空氣）、小型真空吸盤設備（自動化生產線輕型物料搬運）。

旋片泵類目：

實驗室單級 (MS) 旋片泵
工業用單級 (MS) 旋片泵

真空產品

離子泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:42:17 +0000

離子泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:42

一、工作原理（按類型分）

濺射離子泵：高壓電場加速電子電離氣體，正離子被鈦陰極捕獲，鈦受轟擊濺射形成薄膜吸附殘余氣體，量程 10?3~10?11Pa，無油潔凈；?
升華離子泵：加熱鈦源使其升華，鈦膜主動吸附氣體，配合電離捕集惰性氣體，量程 10??~10?12Pa，極限真空更高；?
復合型離子泵：融合濺射與升華技術，兼顧抽速與極限真空，量程 10??~10?12Pa，適配多氣體成分場景。

二、核心應用場景

真空設備配套：為渦輪分子泵、真空腔室后續抽氣，保障系統極限真空；監測殘余氣體，判斷真空系統是否漏氣；?
科研實驗：為粒子加速器、核聚變裝置構建 10??Pa 以下超高真空，減少干擾；為 TEM/SEM、表面物理實驗提供潔凈真空，提升精度；?
工業生產：半導體光刻、離子注入中維持潔凈真空，避免雜質影響芯片制程；光學鍍膜（激光鏡片、航天元件）中保障膜層質量；?
航天軍工：模擬太空 10?1?Pa 以下真空，測試航天器部件；為紅外探測器、精密傳感器提供真空封裝，確保穩定性。

離子泵類目：

小型離子泵
中型離子泵
大型離子泵
復合離子泵
非蒸散型吸氣劑復合離子泵

真空產品

真空計

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:31:00 +0000

真空計 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:31

一、工作原理（按類型分）

熱傳導式：利用氣體熱傳導率隨壓力變化，通過檢測加熱元件（如鎢絲）的電阻 / 溫度變化反推真空度，量程 10?~10?1Pa，結構簡單；
電離式：燈絲發射電子電離氣體，離子流強度與壓力成正比，量程 10?1~10?11Pa，精度高，需先抽低真空；
電容式薄膜：壓力差使金屬膜片形變，導致電容變化，量程 10?~10??Pa，耐污染、無燈絲，適配腐蝕性氣體；
冷陰極式：高壓電場電離氣體，無燈絲損耗，量程 10?2~10??Pa，抗沖擊，適合惡劣環境。

二、核心應用場景

真空設備配套：監測真空泵組（分子泵、干泵）壓力，判斷是否達標 / 漏氣；保障鍍膜機、刻蝕機腔室真空穩定；
科研實驗：為加速器、核聚變裝置測超高真空，為 SEM/TEM 等儀器提供低干擾真空環境，提升實驗精度；
工業生產：半導體工藝（離子注入、晶圓清洗）控潔凈真空，醫藥凍干設備保真空度防藥品破壞；
計量校準：高精度真空計作標準，校準低精度設備，確保測量合規。

真空計類目：

真空產品

真空規管

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:06:17 +0000

真空規管 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:06

一、工作原理（按類型分）

熱傳導式：靠氣體熱傳導率隨壓力變化，檢測加熱金屬絲電阻反推壓力，量程 10?~10?1Pa，簡單低成本，需校準；
電離式：電子撞擊氣體電離產生離子流，離子流強度關聯壓力，量程 10?1~10?11Pa，精度高，需先抽低真空；
電容式薄膜：壓力差使薄金屬膜形變，導致電容變化，量程 10?~10??Pa，耐污染、無燈絲，適配腐蝕性氣體；
冷陰極電離式：高壓電場電離氣體，無燈絲損耗，量程 10?2~10??Pa，耐沖擊，適合惡劣環境。

二、應用場景

真空設備：配套真空泵組監測壓力（判狀態、查漏氣），鍍膜機 / 刻蝕機確認真空達標；
科研實驗：加速器、核聚變裝置測超高真空，SEM/TEM 保障成像分辨率；
工業生產：半導體工藝監測潔凈真空，醫藥凍干設備控真空度防藥品破壞；
計量校準：高精度規管作標準，校準低精度規管。

真空規管類目：

粗真空規
高真空規
寬量程真空規
薄膜真空規

真空產品

渦旋式干泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 00:44:00 +0000

渦旋式干泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 02:44

一、工作原理

核心為渦旋嚙合壓縮：由靜渦旋盤（固定，外圈進氣）與動渦旋盤（偏心旋轉，無自轉）組成，二者嚙合形成封閉 “月牙形腔室”。過程分三步：

吸氣：動渦旋盤旋轉使外圍腔室負壓，吸入氣體；
壓縮：腔室向中心移動并縮小體積，壓縮氣體；
排氣：腔室到中心排氣口，排出壓縮氣體。
全程無摩擦、無潤滑油，間隙僅數十微米，實現無油潔凈抽氣，噪音≤65dB。

二、應用場景

半導體 / 微電子：適配刻蝕、薄膜沉積等工藝，提供 10?3Pa 潔凈真空，避免晶圓污染，保障芯片精度；
醫藥 / 食品：用于藥品凍干、食品真空包裝，符合 GMP/FDA 標準，杜絕油污染，保護熱敏物料活性；
材料 / 鍍膜：助力光學鍍膜、鋰電池材料干燥，減少鍍膜缺陷，保障電極導電性；
分析儀器 / 科研：為質譜儀、表面物理實驗提供低干擾真空，提升檢測精度與數據重復性；
工業輔助：用于真空吸附搬運、塑料脫氣，避免吸附件油污，降低制品氣泡率。

渦旋式干泵類目：

IDP 渦旋泵
渦旋泵省心套裝
TriScroll 泵
渦旋泵附件

真空產品

渦輪分子泵

ynqkjdcom — Wed, 20 Aug 2025 08:28:33 +0000

渦輪分子泵 ynqkjdcom Wed, 08/20/2025 - 10:28

一、工作原理

以動能傳遞為核心，通過高速旋轉的動葉輪（最高轉速 90,000 轉 / 分，外緣線速度 150-400 米 / 秒），將動能傳遞給氣體分子，使其從無序熱運動轉為定向流動；配合交替排列的靜葉輪（間隙僅 1 毫米），實現氣體從進氣口向排氣口輸送。需與前級真空泵（工作壓力 1-10?2Pa）協同，在分子流狀態下發揮高真空獲取能力。

二、應用場景

半導體制造：保障光刻、離子注入等工藝的高真空環境，避免雜質污染，確保芯片精度與性能；
科學研究：為加速器、電子顯微鏡等提供 10??Pa 以下超高真空，降低實驗干擾；
真空鍍膜：維持穩定真空，減少薄膜缺陷，提升光學、耐磨性能；
本公司除氣爐設備：
- 應用于不銹鋼精密工件（如航空連接件）除氣，將爐內真空度穩定在 10??Pa 以下，去除 H?、O?等殘留氣體，使材料氣體殘留量≤5ppm；
- 相比傳統系統，設備潔凈度提升 10 倍、除氣效率提高 30%，工件良品率從 92% 升至 99.5%，獲高端制造客戶復購。

渦輪分子泵類目：

控制器渦輪分子泵
真空渦輪分子泵
一體化渦輪分子泵系統
模塊化渦輪分子泵系統

真空產品